專利授權


具指向性的輻射感測裝置及輻射源定位系統 


專利名稱 具指向性的輻射感測裝置及輻射源定位系統
專利國家
   專利證書號
中華民國 I486619
專利權人 國立台北科技大學
發明人 林顯易、曾華志
應用領域 電子(半導體), 機械, 能源, 自動化
需求項目 專利授權









技術摘要


一種具指向性的輻射感測裝置及輻射源定位系統,將設有輻射感測器的感測電路板設置於具輻射衰減效果的金屬製成固定體以及蓋體內,透過設置於蓋體的入口與出口,即可提供所有非直線通過於入口與出口輻射能量的衰減,藉此可以達成具指向性的輻射感測器的技術功效,當使用二個具指向性的輻射感測裝置即可進一步提供輻射源定位的技術功效。


專利商品特色


1.一種具指向性的輻射感測裝置,其包含:一固定體,所述固定體以具輻射衰減效果的金屬製成,所述固定體內具有一容置空間,於所述固定體內設有一組固定槽;一感測電路板,所述感測電路板透過所述固定槽以設置於所述容置空間內,且所述感測電路板上設有一幅射感測器,所述幅射感測器用以感測輻射能量;及一蓋體,所述蓋體以具輻射衰減效果的金屬製成,所述蓋體內具有一幅射衰減空間以及一固定部,且所述蓋體的頂端至底端分別設有對應且貫通所述幅射衰減空間的一入口與一出口,所述蓋體透過所述固定部覆蓋且固定於所述固定體以將所述感測電路板設置於所述具指向性的輻射感測裝置內;其中,所述蓋體覆蓋於所述固定體以對所有非直線通過於所述入口與所述出口輻射能量的衰減,藉以使得所述幅射感測器所感測到的輻射能量具有單一方向性。
2.如申請專利範圍第1項所述的具指向性的輻射感測裝置,其中所述固定體以具輻射衰減效果的金屬製成,上述的金屬包含鉛以及鎢。
3.如申請專利範圍第1項所述的具指向性的輻射感測裝置,其中所述蓋體以具輻射衰減效果的金屬製成,上述金屬包含鉛以及鎢。
4.如申請專利範圍第1項所述的具指向性的輻射感測裝置,其中所述幅射衰減空間呈現圓球狀,以透過反射方式衰減非直線通過於所述入口與所述出口的輻射能量。
5.如申請專利範圍第1項所述的具指向性的輻射感測裝置,其中所述固定體以鉛製成時,所述固定體的厚度至少為1.8公分,以提供穿透所述固定體的輻射能量達到80%的衰減率。
6.如申請專利範圍第1項所述的具指向性的輻射感測裝置,其中所述蓋體以鉛製成時,所述蓋體的厚度至少為1.8公分,以提供穿透所述蓋體的輻射能量達到80%的衰減率。
7.如申請專利範圍第1項所述的具指向性的輻射感測裝置,其中所述固定部呈現環狀,且所述固定部更包含一組定位槽,所述定位槽的位置與所述固定槽的位置對應,所述定位槽用以提供所述蓋體透過所述固定部覆蓋且固定於所述固定體時,所述感測電路板外端設置於所述定位槽,以提供所述蓋體定位之用。
8.如申請專利範圍第1項所述的具指向性的輻射感測裝置,其中所述感測電路板是透過所述蓋體的所述入口與所述出口與外部電源以配線方式連接,以使得所述感測電路板獲得電源供應。
(因欄位字數限制,未將所有權項列出)


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