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具波長可調機制之光纖光柵外腔雷射系統
 
專利名稱 具波長可調機制之光纖光柵外腔雷射系統
專利證書號 I497853
專利權人 國立台北科技大學
專利國家 台灣,
發明人 莊賀喬、張銘顯、王士奇、鍾朝義
應用領域 機械
需求項目 專利授權
 
專利商品特色:
本發明係有關應用光纖光柵與雙軸微動平台元件於外腔雷射系統之裝置,並利用真空封裝的方式使雷射頻率穩定。在波長調整機構方面,其裝置之特徵在於使用一微機電製程技術所製作的雙軸微動平台並結合一壓電致動器應用於外腔雷射系統內。此一雙軸微動平台與壓電致動器元件上裝置有一光纖光柵用以將繞射後的部分雷射光束回授給雷射源,其餘的雷射光則透過光纖成為輸出光。此外,此雙軸微動平台會依據所輸入的電壓大小及所輸入的位置,在光纖光柵的軸向或是徑向上產生相對的位移,用以粗調整雷射波長及找尋光學迴授。而由於光纖光柵是黏附在壓電致動器元件上,因此光纖光柵的光柵週期(grating period)會隨著壓電致動器的伸長與收縮量做改變,進而達到雷射波長調整的目的。另外在真空封裝機制方面,其裝置之特徵在於使用一矽材料所製作的真空傳輸導線板與雷射系統的派瑞克斯玻璃上蓋做陽極接合,以完成雷射系統的封裝,接著利用真空幫浦將封裝好後的雷射系統抽至所需的真空度,如此一來雷射系統便可以長期處在沒有噪音、空氣擾動與外界溫度改變的環境中,因而使得雷射頻率可以長期穩定。另外在此一矽真空傳輸導線板上裝置有數個用於電性傳輸的電鍍銅塊,用以將真空系統外的電流與電壓訊號傳授給在真空系統內的雷射器之各個元件上。

專利商品技術說明:
1.一種具波長可調機制之光纖光柵外腔雷射系統,其裝置是包含左半部設置於固定底座之上的雷射二極體晶片,再與右半部位於雙軸微動平台元件之上的光纖透鏡、光纖光柵及真空封裝裝置構成一緊實穩定的外腔雷射系統,其特徵在於雙軸微動平台元件會因電壓的輸入而改變雷射二極體晶片與光纖光柵的相對位置,進而改變雷射光的波長。
2.如申請專利範圍第1項所述之具波長可調機制之光纖光柵外腔雷射系統,其中具波長調整功能的雙軸微動平台元件,設置於雷射外腔的一端並置於具有溫控功能的熱電致冷器上,其裝置包含一光纖光柵安置處、四組靜電式梳狀電容平板、五組電極、四處能產生回復形變的彈簧片與一壓電致動器安置處。
3.如申請專利範圍第1項所述之具波長可調機制之光纖光柵外腔雷射系統,其中具與派瑞克斯玻璃做陽極接合功能的真空傳輸導線板元件,設置於雷射系統的底座與派瑞克斯玻璃的中間,其裝置包含一雷射二極體晶片安置處、雙軸微動平台安置處、十組真空傳輸導線、一個真空抽氣孔及六組打線接合襯墊,其特徵在施加適當的溫度及電場之後,能夠與派瑞克斯玻璃產生強度高的接合,使雷射系統能夠維持在真空封裝的環境。

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聯絡人:專利技轉組 電 話:(02)8772-0360
與我連絡 地 址:10608 台北市忠孝東路三段1號 行政大樓5樓
 
 
   




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