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學經歷： | ||||||||||||||||||||||||||||||
| 最高學歷 國立中央大學光電科學研究所 博士 現職及相關經歷 國立台北科技大學光電工程系,專任教授 |
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| 專業技術 |
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| 研發介紹 |
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| ◎ 授課課程 | |||||||||||||||||||||||||||||||
| 01. 研究所,光學薄膜設計與應用(Design and application of optical coating )─(1)基本理論(2)光學薄膜設計之圖示法(3)分光鏡(4)高反射鏡(5) 截止濾光片(6)帶通濾光片(7)斜向入射薄膜 02. 研究所,膜層分析技術及應用(Techniques and Applications of Films Analysis )─先修課程：負責教授同意。 表面現象、膜層厚度、介面反應等與近代高科技技術，如鍍膜工程、表面處理、腐蝕、磨潤、微機電、感測器、光電半導體技術等息息相關，且日益重要。表面分析是原子層次的相關研究，它包括振動、電子或離子頻譜分析、微技術等之應用。主要的項目包含：表面形貌觀察(SEM、BSEM、AFM)、成份分析(光譜分析、質譜分析、EDX)、結構分析(XRD、AES、ESCA、XPS)、鍵結分析(Raman光譜、FTIR),光電性質、表面粗糙度、膜厚、附著力、內應力等膜之特性分析。 03. 大學部,電磁學(Electromagnetic field and waves)─瞭解電磁學之基本觀念與應用。(1)電磁(7)時變場與馬克斯威爾定理(8)平面電磁波(9)傳輸線理論與應用(10)波導及共腔共振器(11)天線反輻射原理 04. 大學部,幾何光學(Geometric-Optics )─即使科學昌明如此，但我們日常生活中使用的、不斷推陳出新的照相機、攝錄影機、影印機等，在在都說明幾何光學現在仍然是主宰設計的工具。光學主要是藉著對光本質方面的瞭解，發展有關的理論基礎與計算法則，並進而用在日常生活且增益人類福祉的一門科學。幾何光學則是光學理論中，一連串近似運算的結果，著重在成像的效果和應用的一門工具性知識。本系之幾何光學是一學期、三學分、每週三小時的課程，教學內容大致包含以下三部份：一、介紹光的性質、在介面上反射、折射之有關定理、成像的原因及應用。二、分析像差現象及其成因與評估。三、淺介透鏡之設計。 05. 大學部,物理(Physics)─本校之普通物理課程專為工程科系背景之同學設計，主要的目的是鼓勵同學參與大自然運行奧秘、法則之探索，並供給爾後修習專業課程之堅實基礎。本課程之內容包含力學、熱力學、聲學、電磁學、光學及近代物理。教授者可按每週三小時、二個學期的時間設計、再參酌各系不同之需求、加強或節略某些章節。 06. 大學部,物理實驗(Physics Lab.)─本課程的目的是為了：1.驗證物理理論之真實性，2.培養同學認真的科學態度與方法，3.培養同學數據處理的能力，4.啟發同學自行設計解決量度問題的方法。課程之施行分為上下兩學期，每一學期為一學分三小時。上學期的內容偏重力學、波動、熱力、流力之實驗，下學期的內容則偏重電磁、光學、近物之實驗。 07. 大學部,實務專題(Special Projects)─指導學生進行研究專題，以培其實務的能力，學生必須選一實務專題，由本系教師指導，在畢業前完成成品製作，且需有書面報告。 |
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| ◎ 研究計畫 | |||||||||||||||||||||||||||||||
| 01. 計畫名稱： 光學薄膜之鍍膜參數、微觀結構與光學特性三者關聯性之探討, 擔任計畫主持人, 95年11月01日~92年10月31日, 國科會, 核定 02. 計畫名稱： 紫外光及深紫外光濾光片之研製(II)－紫外及深紫外光薄膜之非均向性研究與應用(2/2), 擔任計畫主持人, 95年08月01日~96年07月31日, 國科會, 核定 03. 計畫名稱： 紫外光及深紫外光濾光片之研製(II)－總計畫(2/2), 擔任共同主持人, 95年08月01日~96年07月31日, 國科會, 核定 04. 計畫名稱： 紫外及深紫外光濾光片之研製(II)－紫外及深紫外光薄膜之非均向性研究與應用(1/2), 擔任計畫主持人, 94年08月01日~95年07月31日, 國科會, 核定 05. 計畫名稱： 紫外光及深紫外光濾光片之研製(II)－總計畫(1/2), 擔任計畫共同主持人, 94年08月01日~95年07月31日, 國科會, 核定 06. 計畫名稱： 紫外及深紫外光濾光片之研製---子計畫二：紫外及深紫外光薄膜之非均向性研究與應用(I), 擔任計畫主持人, 93年08月01日~94年07月31日, 國科會, 核定 07. 計畫名稱： 以表面電漿共振法探討薄膜柱狀結構的光學特性並運用於生物感測技術(II), 擔任計畫主持人, 92年08月01日~93年07月31日, 國科會, 核定 08. 計畫名稱： 分波多工器(DWDM)用干涉濾光片良率相關之成膜機制及鍍後穩定性之研究, 擔任計畫共同主持人, 91年08月01日~92年07月31日, 國科會, 核定 09. 計畫名稱： 以表面電漿共振法探討薄膜柱狀結構的光學特性並運用於生物感測技術, 擔任計畫主持人, 91年08月01日~92年07月31日, 國科會, 核定 10. 計畫名稱： 利用干涉法來量測非均向性物質與薄膜的光學特性, 擔任計畫主持人, 91年08月01日~92年07月31日, 國科會, 核定 |
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