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水氣阻障結構體的製造方法、水氣阻障結構體
　The Fabrication of Barrier Films by Co-sputtering and Parylene deposition techniques


專利名稱 / Patent Title 水氣阻障結構體的製造方法、水氣阻障結構體
The Fabrication of Barrier Films by Co-sputtering and Parylene deposition techniques
專利國家 / Country
   專利證書號 / Registration Number
中華民國 / TW　I681870
專利權人 / Applicant 國立臺北科技大學 / National Taipei University of Technology
發明人 / Inventor 劉子萱, 楊重光, 黃聲東/Sheng-Tung Huang

專利詳細說明
Patent Details

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技術摘要 / Abstract


一種水氣阻障結構體的製造方法，包括以下步驟：(a)於一個光穿透基板上形成一層厚度範圍為25至100 nm的光穿透氧化鋅錫膜，得到一個第一積層件；(b)在該第一積層件的該光穿透氧化鋅錫膜的表面形成一層光穿透氧化金屬膜得到一個第二積層件，且使該光穿透氧化金屬膜的色度與該第一積層件的色度互為補色，其中，該光穿透氧化金屬膜是選自於氧化鋅或氧化錫且厚度範圍為10至180 nm；及(c)在該第二積層件的該光穿透氧化金屬膜的表面形成一層厚度範圍為40至550nm聚對二甲苯系膜。本發明也提供一種水氣阻障結構體。


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