可授權專利


被動式Q開關光纖雷射系統及製造其飽和吸收體的方法 


專利名稱 被動式Q開關光纖雷射系統及製造其飽和吸收體的方法
專利國家
   專利證書號
中華民國 I626805
專利權人 國立台北科技大學
發明人 陳建銘、李穎玟
應用領域
需求項目









技術摘要


一種被動式Q開關光纖雷射系統包括一幫浦光源連接一環型共振腔。環型共振腔包括依序連接的增益光纖、分光耦合器及飽和吸收體。分光耦合器將來自增益光纖的受激雷射光的一部分能量導入飽和吸收體,另一部分能量輸出環型共振腔。飽和吸收體是將硫化鉛量子點材料與膠體聚合物混合後,再將混合物分兩階段在不同溫度下進行乾燥所製得的量子點高分子複合膜,其製作簡單,具有低飽和吸收強度以及1000 nm~1100 nm及1500 nm~1600 nm等多個吸收波段,能分別搭配不同摻雜離子或發射波長的增益光纖使用。利用此飽和吸收體可以提高系統的最大輸出功率及最大脈衝能量。


專利商品特色




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