可授權專利


光敏染料及其製造方法 


專利名稱 光敏染料及其製造方法
專利國家
   專利證書號
美國 US8,455,642B2
專利權人 國立台北科技大學
發明人 李文仁、蘇昭瑾、許乃木、張瑋駿、陳慧修、李庭育、李中諺
應用領域
需求項目









技術摘要


A theme of the present invention is to propose a new series of N-heterocyclic carbene-pyridine ruthenium sensitizers incorporated with at least one carbene unit and provide their synthetic methods. The structural modification on the carbene-pyridine ligand of ruthenium complexes resulted in promising photosensitizers for dye-sensitized solar cells exhibiting excellent cell performance.


專利商品特色




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