可授權專利


液相層析裝置 


專利名稱 液相層析裝置
專利國家
   專利證書號
中華民國 M414584
中華民國 M420920
專利權人 國立台北科技大學
發明人 陳建銘、李仁愛
應用領域
需求項目









技術摘要


本創作係有關於外腔雷射系統之真空封裝機制,其裝置之特徵在於使用一矽材料所製作的真空傳輸導線板應用於封裝外腔雷射系統上。此一矽真空傳輸導線板上裝置有數個用於電性傳輸的電鍍銅塊,用以將真空系統外的電流與電壓訊號傳授給在真空系統內的雷射器之各個元件上。此外,在矽真空傳輸導線板的正面外圍預留一個區域,用以與派瑞克斯玻璃真空腔體做陽極接合。在完成雷射系統封裝後,即可啟動真空幫浦將封裝好後的雷射系統抽至所需的真空度,如此一來雷射系統便可以長期處在沒有噪音、空氣擾動與外界溫度改變的環境中,因而使得雷射頻率可以長期穩定。但是雷射系統將被封裝於一玻璃真空腔體內與外界隔絕,因此雷射系統上所需的各項電源訊號則必須透過本創作之真空傳輸導線板上的電性傳輸導線(電鍍銅)來達成,此傳輸導線不但可以傳輸所需的電流、電壓訊號,更可以承載高電流的負載,而不會使傳輸導線產生破孔,因而降低真空度,因此任何外腔雷射系統皆可藉由此真空傳輸導線板的設計來達到所需要的真空封裝效果。


專利商品特色




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