可授權專利


正交偏極式Mirau干涉以及其分光模組與干涉系統 


專利名稱 正交偏極式Mirau干涉術以及其分光模組與干涉系統
專利國家
   專利證書號
中華民國 I447351
專利權人 國立台北科技大學
發明人 葉勝利、林世聰、陳亮嘉
應用領域
需求項目









技術摘要


本發明提供一種正交偏極式Mirau干涉術,其係利用一分光模組將一被聚光之入射光分成偏極態相互正交之一參考光與一偵測光。該偵測光照射至一待測物上而形成載有和該待測物之表面形貌相關資訊之一測物光。該測物光與該參考光先被該分光模組以偏極態相互正交之方式合光,再利用一分析器調制該合光光場中二光之偏極態和強度,使二光能相互干涉而產生具有高對比度之干涉圖案。在本發明中,該分光模組可以利用二偏極元件、一雙折射性基材或一偏極式分光層將該測物光與該參考光正交偏極化。利用前述之方法,本發明更提供一正交偏極式Mirau干涉系統,以形成和一待測物之表面形貌資訊相關之干涉圖案。由於參考光與測物光係以正交偏極方式被合光,因此可以利用一分析器分別調整參考光與測物光之強度而使二者相近,進而改善該干涉圖案之對比度。


專利商品特色




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