可授權專利


局部排氣系統 


專利名稱 局部排氣系統
專利國家
   專利證書號
中華民國 M597854
專利權人 國立台北科技大學
發明人 胡石政
應用領域
需求項目









技術摘要


一種局部排氣系統,適用於設置在一清洗槽,清洗槽具有一槽口,槽口具
有一第一側及一相反於第一側的第二側。局部排氣系統包含一層流裝置及一抽氣裝置。層流裝置設置於槽口的第一側,層流裝置包括一殼體、一蓋板及一透氣板。殼體具有一圍繞壁、一第一開口及一與第一開口相反的第二開口。蓋板連接圍繞壁並遮蓋第一開口,蓋板形成一供氣體填充至殼體內的通氣孔。透氣板設置於殼體內並封閉第二開口。抽氣裝置設置於槽口的第二側,抽氣裝置包括一外殼及至少一設置於該外殼內的第一導流板,該外殼具有一面向該槽口的抽氣開口及一與該抽氣開口位於相反側的該抽氣孔,該抽氣孔供氣體排出該外殼,該第一導流板位於該抽氣開口及該抽氣孔之間。


專利商品特色




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聯絡人:專利技轉組
電 話:(02)2771-2171
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