可授權專利


於鈦金屬表面形成二氧化鈦微結構之製造方法(利用電化學陽極處理方式進行鈦金屬表面改質以促進其骨整合 


專利名稱 於鈦金屬表面形成二氧化鈦微結構之製造方法
專利國家
   專利證書號
中華民國 I427192
專利權人 國立台北科技大學
發明人 方旭偉、李欣純、張志宏
應用領域 化工
需求項目









技術摘要


本發明係為一種於鈦金屬表面形成二氧化鈦微結構之製造方法,其包括下列步驟:提供鈦金屬基材;以及進行電化學陽極處理之同時對鈦金屬基材施加擾動。藉由在進行電化學陽極處理之同時對作為陽極的鈦金屬基材施加擾動,以使得可在相對低電壓及短時間內,即使鈦金屬基材表面的二氧化鈦微結構崩塌,並形成三維微米級結構,由於三維微米級結構具有較大的接觸面積,因此有助於成骨細胞的貼附及生長。


專利商品特色


1.一種於鈦金屬表面形成二氧化鈦微結構之製造方法,包括下列步驟:提供一鈦金屬基材;以及進行一電化學陽極處理,以該鈦金屬基材作為陽極,並將其置於一第一電解液中以一第一電壓,經過一第一期間,使該鈦金屬基材表面得以形成複數個二氧化鈦微結構,並於該電化學陽極處理之同時對該鈦金屬基材施加擾動,以導致該些二氧化鈦微結構崩塌,形成一三維微米級結構,其中對該鈦金屬基材施加擾動係以一定轉速轉動該鈦金屬基材,且該定轉速的範圍為每分鐘30~60轉圈。
2.如申請專利範圍第1項所述之製造方法,其中該鈦金屬基材進行該電化學陽極處理前,進行一電拋光(electropolishing)處理。
3.如申請專利範圍第2項所述之製造方法,其中該電拋光處理係為將該鈦金屬基材作為陽極,置於一第二電解液中,以一第二電壓並經過一第二期間後,再取出該鈦金屬基材清洗以得光滑表面。
4.如申請專利範圍第3項所述之製造方法,其中該第二電解液包括選自下列族群之一或其組合:乙二醇丁醚(ethylene glycol butyl ether)、甲醇及過氯酸。
5.如申請專利範圍第3項所述之製造方法,其中該第二電壓的範圍為30~40伏特。
6.如申請專利範圍第3項所述之製造方法,其中該第二期間的範圍為35~45秒。
7.如申請專利範圍第1項所述之製造方法,其中該第一電解液包括選自下列族群之一或其組合:氟化銨、水及乙二醇。
8.如申請專利範圍第1項所述之製造方法,其中該第一電壓的範圍為40~200伏特。
9.如申請專利範圍第1項所述之製造方法,其中該第一期間的範圍為120~240分鐘。
10.如申請專利範圍第1項所述之製造方法,其中進行該電化學陽極處理後,進一步取出該鈦金屬基材,並將該鈦金屬基材水洗後於空氣中進行一熱處理。
11.如申請專利範圍第12項所述之製造方法,其中該熱處理係從室溫以每分鐘5℃的升溫速率升溫至450℃維持3小時,反之以每分鐘5℃的降溫速率降溫至室溫。
12.如申請專利範圍第1項所述之製造方法,其中該三維微米級結構係由二氧化鈦奈米線所構成。


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電 話:(02)8772-0360
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